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日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備
簡要描述:

日本ULVAC愛發科H83-50 H83-125 H84-125半導體臥式熱處理設備
日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備

  • 產品型號:H83-50 H83-125 H84-125
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-10-14
  • 訪  問  量:726

詳細介紹

日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備

日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備


臥式熱處理設備H系列

這是一款高度可靠的熱處理爐,擁有 30 多年的良好記錄??捎糜?00mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。


特征

  • 這是一種臥式爐,用作氧化爐、擴散爐和退火爐。

  • 可以在一臺設備上選擇不同的進程。

  • 我們的目標是通過使用 3 層或 4 層配置來節省空間。

  • 5 個區域加熱器均獨立控制,可實現溫度控制,具有出色的熱均勻性和穩定性。

  • 配備內部控制系統,操作簡單可靠。

  • H83-125和H84-125標配船用升降機,可以輕松裝載到上層。

  • 可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。

目的

  • 硅片的熱氧化、擴散和退火

規格

模型H83-50H83-125H84-125
過程氧化、擴散、退火
晶圓直徑~200mm(8英寸)
級數334
產品晶圓數量50125125
加熱區5
加熱器材質鐵鉻鋁
常用溫度600~1200℃
浸泡長度370毫米800毫米800毫米
溫度均勻±1.0℃

















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